在半导体芯片封装去胶、晶圆键合前活化、光刻前预处理、精密元器件表面改性等半导体制造核心场景中，脉冲电源的输出均匀性、无损伤控制及参数精准度，直接决定芯片良率、封装可靠性与器件长期运行稳定性。传统脉冲电源普遍存在单极性输出波动大、等离子体密度不均、难以适配纳米级精细结构处理需求等问题，常导致芯片表面残胶残留、键合强度不足、界面空洞等痛点，制约半导体工艺向3nm及以下先进节点演进。而具备“纳米级精准控能”“低损伤等离子激发”特性的纳米级单极性脉冲电源，已成为破解半导体芯片封装清洗工艺难题的核心装备，契合半导体产业高质量发展需求。

苏州渊禄智能科技有限公司聚焦半导体高端制造领域的严苛供电需求，推出新一代纳米级单极性脉冲电源，凭借三大核心技术突破，为芯片封装等离子清洗等工艺升级提供定制化解决方案。其一，高精参数宽域调控，支持输出电压0-50V、电流0-200A宽范围调节，脉冲频率13.56MHz-27MHz双频可调，脉冲宽度0.01μs-50μs精细设定，电流精度≤±0.03%，可灵活匹配氧气、氢气、氩气等不同工作气体，适配硅基、化合物半导体等不同基材的清洗改性需求；其二，纳米级均匀输出，采用分布式射频电极驱动设计与多闭环反馈控制，等离子体密度偏差≤3%，有效保障12英寸晶圆全域清洗均匀性，避免局部残胶或基材损伤；其三，低损伤工艺适配，集成低能等离子体模式，离子轰击能量可控制在8eV以下，搭配EMC六级滤波设计，输出纹波系数≤0.02%，满足敏感器件无损伤处理要求，设备防护等级达IP67，适配半导体洁净车间Class 100级环境24小时连续运行。